制造半導體器件或集成電路用化學氣相沉積裝置(化學氣相沉積裝置(CVD))

海關編碼	8486202100
商品描述	制造半導體器件或集成電路用化學氣相沉積裝置(化學氣相沉積裝置(CVD))
商品描述英文	Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis
申報要素	0:品牌類型;1:出口享惠情況;2:用途;3:功能;4:品牌;5:型號;6:GTIN;7:CAS;
申報要素舉例	1.金屬有機物化學氣相淀積設備；2.用于制造外延片；3.由壓力控制，溫度控制，反應室等子系統通過計算機軟件連接組成，可按照設計需求獨立設定氣流，壓力，溫度等工藝參數值，制備滿足設計需求的外延片；4.無品牌；5.無型號
第一法定單位	臺
第二法定單位	無
最惠國進口稅率	0%
普通進口稅率	30%
暫定進口稅率	-
消費稅率	-
出口關稅率	0%
出口退稅率	16%
增值稅率	16%
海關監管條件	無
檢驗檢疫類別	無